กระบวนการ Etching
- TOP
- กระบวนการ Etching
กระบวนการ Etching
Photo etching เป็นวิธีการทำเครื่องหมายบนโลหะตามรูปร่างต่างๆ ด้วยเทคโนโลยีในการใช้ภาพถ่าย จากนั้นใช้สารละลายทางเคมีกัดกร่อนเพื่อสร้างรูปร่างที่ต้องการ
01
การสร้างแผ่น Etching
สร้างแผ่นต้นแบบใน CAD โดยใช้แผนภาพเป็นแบบ แผ่นต้นแบบนั้นจะสร้างเป็นแผ่นที่มีส่วนสีดำ (ทึบแสง) และส่วนโปร่งแสง (แสงผ่านได้) ส่วนแผ่นเนกาทีฟตามรูปทรงที่ต้องการให้เป็นรูปแบบที่ต้องการ
02
การขจัดคราบไขมันบนแผ่นโลหะ
ในขั้นต่อไปแผ่นเรซินจะถูกเคลือกบนแผ่นโลหะ จึงต้องล้างพื้นผิวและทำความสะอาดเพื่อเพิ่มความแข็งแรงในการยึดเกาะ
03
ลามิเนต
ติดตัวต้านทานบนแผ่นโลหะ
*ความต้านทาาน : ความแข็งตัวในความไวแสงที่เรซินทำปฎิกิริยากับแสง
04
การกระจายแสง
ใช้แผ่นเพลทก่อนหน้า ส่องลำแสงใส่ แผ่นเพลทตั้งต้นประกอบด้วยส่วนป้องกันแสง และส่วนโปร่งแสง เกิดเป็นลวดลาย ตัวต้านทานแสงจะแข็งขึ้นรูปขึ้น ตามรูปแบบที่ต้องการ
05
การล้างฟิล์ม
ทำการพ่นน้ำยาล้างฟิล์มที่วัสดุที่ถูกแสง ตัวต้านทานที่ไม่เกิดการแข็งตัวละถูกกำจัดออก จากนั้นสร้างรูปแบบที่ต้องการบนแผ่นโลหะ จะได้แผ่นโลหะที่ป้องกันความต้านทาน และส่วนที่เปิดรับแสง
06
Etching
ทำการแช่โลหะในสารละลายกัดกร่อน โลหะส่วนที่ไม่ได้รับการป้องกันการต้านทานก็จะกัดกร่อนออกไป ส่วนโลหะที่ต้านทานจากการกัดกร่อน จะถูกชุบได้เป็นแผ่นโลหะ
07
การลอก
ส่วน Photo resist จะถูกขจัดออกด้วยสารละลายแบบพิเศษ เหลือเพียงรูปแบบแผ่นโลหะที่ต้องการ
08
การแยกชิ้นผลิตภัณฑ์
ในการ Etching นั้น จะมีการกำหนดชิ้นส่วนหลายส่วน เพื่อประสิทธิภาพในการทำงาน แต่ละผลิตภัณฑ์จะเป็นแผ่นโลหะที่มีข้อต่อ (bridge) แบบโมเดลพลาสติก และทำการตัดอีกครั้งเพื่อแยกชิ้นส่วนออก